无水氯化铟 三氯化铟 InCl3 厂家供应
“无水氯化铟 三氯化铟 InCl3 厂家供应”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 种类： | 氯化铟 |
| 形态： | 粉末状 | 等级标准： | 高纯 |
| 型号： | 99.999% | 规格： | 粉末 |
| 商标： | 阿尔法 | 包装： | 真空瓶装或袋装 |
| 产量： | 8000 |
“无水氯化铟 三氯化铟 InCl3 厂家供应”详细介绍
无水三氯化铟（InCl3)?
1, 工艺路线：非湿法工艺，不含任何结晶水.铟与固态氯化物反应后，通过精馏工艺分离,提纯；?
2，检验：XRD;GDMS (4N:所有的杂质元素总和低于100ppm；因为氯化亚铟易水解，故ICP-AES,ICP-OES,ICP-MS,无法准确检测其纯度,因这3种检验手段是采取对样品：溶解，消解，稀释等配置水溶液).?
3，服务：提供MSDS及实用的防护措施（当客户不小心吸入时，我们会在第一时间内提供您最行之有效的解决方案);提供免费样品供客户检测；提供材料应用的解决方案。?
4，物理特性：熔点：586℃；密度 :3.46g/cm3；规格：白色片状结晶或黄色结（颜色请见产品图片）; 敏感性 :易水解；?
5，用途：半导体掺杂-Doping ;生产荧光粉、III-V 族化合物半导体、低压纳灯、制备ITO薄膜，合成有机铟系列化合物的基本原料，有机反应的催化剂，在有机合成和电子工业方面具有广泛的应用。?
6，同类产品介绍：氯化*（CaCl3）; 氯化亚铟（InCl)...?
7，纯度：99.99%；?
8，包装：瓶装：氩气保护：1Kg/瓶，外加铝复合薄膜真空包装;?
1, 工艺路线：非湿法工艺，不含任何结晶水.铟与固态氯化物反应后，通过精馏工艺分离,提纯；?
2，检验：XRD;GDMS (4N:所有的杂质元素总和低于100ppm；因为氯化亚铟易水解，故ICP-AES,ICP-OES,ICP-MS,无法准确检测其纯度,因这3种检验手段是采取对样品：溶解，消解，稀释等配置水溶液).?
3，服务：提供MSDS及实用的防护措施（当客户不小心吸入时，我们会在第一时间内提供您最行之有效的解决方案);提供免费样品供客户检测；提供材料应用的解决方案。?
4，物理特性：熔点：586℃；密度 :3.46g/cm3；规格：白色片状结晶或黄色结（颜色请见产品图片）; 敏感性 :易水解；?
5，用途：半导体掺杂-Doping ;生产荧光粉、III-V 族化合物半导体、低压纳灯、制备ITO薄膜，合成有机铟系列化合物的基本原料，有机反应的催化剂，在有机合成和电子工业方面具有广泛的应用。?
6，同类产品介绍：氯化*（CaCl3）; 氯化亚铟（InCl)...?
7，纯度：99.99%；?
8，包装：瓶装：氩气保护：1Kg/瓶，外加铝复合薄膜真空包装;?
9，交期：5-10天.;
? ?东莞阿尔法金属材料有限公司成立于2014年，主要生产，研发，销售各种高纯金属材料，半导体化合物，真空镀膜材料，高纯高致密磁控溅射靶材，各种合金产品。公司以诚信为本，质量第一为经营理念。以市场为先导，不断创新，研发各种新型材料，满足客户需求。公司位于成都市锦江工业园区，距双流国际机场25公里。
? ?公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物理气象沉积）装置，移动式加热装置等多种高纯金属和化合物生产研发设备；提纯工艺包括：真空蒸馏；精馏；区域熔炼；电解；化学气象沉积；物理气象沉积；热扩散；单晶提拉法等。材料种类包括：光电材料，热电材料，相变材料，镀膜材料等。纯度从99.99%-99.99999%,材料广泛应用于光伏，光电，电子行业，镀膜，医药行业，军工，科研等领域。
? 产品范围包括特种陶瓷，单质金属，合金，半导体化合物及各种复杂合成的新材料 及制品（纯度从低至高，高至99.99999%）。尤其在磁控溅射靶材,真空镀膜材料,高纯化合物半导体材料，蒸馏稀土金属,稀土合金，稀土氟化物，特种合金具有极大的优势。
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自有设备：真空热压炉，真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，定向凝固，区域熔炼炉，多温区加热炉，单晶炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、加工设备。
编辑：东莞阿尔法金属材料有限公司 时间：2019/09/02