*化铟靶材 三*化二铟靶材
“*化铟靶材 三*化二铟靶材”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 加工定制： | 是 |
| 种类： | 化合物半导体 | 特性： | 高致密，高纯度 |
| 用途： | 磁控溅射 | 型号： | 99.99% |
| 规格： | 定制 | 商标： | Alfa |
| 包装： | 适合运输的包装 | 产量： | 200 |
“*化铟靶材 三*化二铟靶材”详细介绍
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。
项目*化铟靶材（In2S3）比例（按客户需求）
纯度99.9%-99.999%
尺寸圆形：2-8英寸? 方形：1000mm? 可根据用户需要进行定制
公差±0.1mm
用途溅射镀膜?蒸发镀膜? 实验或研究级别
产品优势纯度高，杂质少，相对致密度高，晶粒均匀，一致性高
产品附件正式报价单/购销合同/装箱单/检测单/正规发票
包装说明送货上门或国内快递承运
服务提供免费样品&材料应用解决方案
编辑：东莞阿尔法金属材料有限公司 时间：2019/09/02
上一条：铜铟镓硒靶材 CIGS靶材
下一条：*化镉靶材 *化镉粉末