高纯氮化镓(GaN)
纯度:99.999%
规格:粉末
包装:真空瓶装或袋装
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氮化镓靶材
东莞阿尔法金属材料有限公司成立于2014年,主要生产,研发,销售各种高纯金属材料,半导体化合物,真空镀膜材料,高纯高致密磁控溅射靶材,各种合金产品。公司以诚信为本,质量第一为经营理念。以市场为先导,不断创新,研发各种新型材料,满足客户需求。东莞阿尔法金属材料有限公司提供各种靶材,蒸发料,用于磁控溅射工艺制备铜铟镓硒(CIGS薄膜) ?碲化镉(CdTe薄膜)?铜锌锡*(CZTS薄膜)等各种化合物溅射靶材
一,四元合金靶材:CuInGaSe(CIGS?)靶材
1,常规原子比:1:0.7:0.3:2或者 1:0.8:0.2:2(客户亦可根据自身工艺制订原子比例)
技术对接:CVD合成四元合金(高精分析天平称量,各种元素的配比公差低于百万分之一)--氮气保护下研磨制粉–HP(热压)--检验—打磨,抛光。
2,检验:ICP-MS;XRD通过ICP-MS 检测杂质含量:5N的CIGS 靶材的杂质元素总和小于10ppm.通过XRD衍射:CIGS 具备闪锌黄铜矿结构。(可提供检验报告和样品)。3,靶材致密度:大于93%。
4,服务:可免费提供导电玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客户最后的硒化工艺,因为磁控溅射CIGS的过程中有硒的流失。
5,安全防护措施:提供MSDS及溅射过程中的必要防护。
二,三硒化二铟(In2Se3)靶材;三硒化二*(Ga2Se3)靶材,硒化亚铜(Cu2Se),或者硒化铜(CuSe)靶材
技术对接:CVD 合成二元合金–HP(热压)--检验—打磨,抛光。
三,铜*(CuGa);铜铟(CuIn);铜*铟(CuGaIn)
靶材配方原子比例:客户可自选,我方亦可以提供常规原子比例。
四,铜(Cu)靶;铟(In)靶,硒(Se)靶技术对接:浇铸
五,CIGS配套靶材N型:*化镉(CDS)靶,*化锌(ZnS)靶,硒化锌(ZnSe)靶。氧化锌铝(AZO)靶,钼(Mo)靶
1,由于*化镉有毒,所以*化锌,硒化锌靶为其替代品。试验表明硒化铟也有此属性。
2,*化镉,*化锌,硒化锌制备工艺:CVD 高纯氩气携带金属蒸汽(镉,锌蒸汽)进入反应室与过量的H2S,H2Se 气体气相沉积而成。
六,碲化镉(CdTe)靶材;*化镉(CdS)靶材;
靶材特点:高致密,高纯度,晶粒细,焊接工艺成熟
提供靶材如下:
碲化物靶材:碲化铋(Bi2Te3)靶材;碲化锑(Sb2Te3)靶材;碲化锌(ZnTe)靶材;碲化铜(CuTe)靶材;碲化铅(PbTe)靶材;碲化铟(InTe)靶材;碲化镉(CdTe)靶材等
硒化物靶材:硒化铋(Bi2Se3)靶材;硒化铜(CuSe)靶材;硒化铅(PbSe)靶材等
锑化物靶材:锑化铟(InSb)靶材;锑化镉(CdSb)靶材;锑化锌(Zn4Sb3)靶材等
*化物靶材:*化锌(ZnS)靶材;*化铟(In2S3)靶材;*化镉(CdS)靶材;*化铋(Bi2S3)靶材;*化*(Ga2S3)靶材;*化铜(CuS)靶材等
氧化物靶材:氧化锌(ZnO)靶材;氧化*(Ga2O3)靶材;氧化铟(In2O3)靶材等
氮化物靶材:氮化铟(InN)靶材;氮化镓(GaN)靶材?