是否有现货：	是	加工定制：	是
种类：	化合物半导体	特性：	99.999%
用途：	磁控溅射	型号：	5n
规格：	定制	商标：	阿尔法
包装：	适合运输的包装	产量：	8000

东莞阿尔法金属材料有限公司成立于2014年，主要生产，研发，销售各种高纯金属材料，半导体化合物，真空镀膜材料，高纯高致密磁控溅射靶材，各种合金产品。公司以诚信为本，质量第一为经营理念。以市场为先导，不断创新，研发各种新型材料，满足客户需求。东莞阿尔法金属材料有限公司提供各种靶材，蒸发料，用于磁控溅射工艺制备铜铟镓硒(CIGS薄膜) ?碲化镉(CdTe薄膜)?铜锌锡*（CZTS薄膜）等各种化合物溅射靶材
一，四元合金靶材：CuInGaSe（CIGS?）靶材
1 ，常规原子比：1：0.7：0.3：2或者 1：0.8：0.2：
2（客户亦可根据自身工艺制订原子比例）
技术对接：CVD合成四元合金（高精分析天平称量，各种元素的配比公差低于百万分之一）
--氮气保护下研磨制粉–HP（热压）--检验—打磨，抛光。
2 ，检验：ICP-MS；XRD 通过ICP-MS
检测杂质含量：5N的CIGS 靶材的杂质元素总和小于10ppm. 通过XRD衍射：CIGS 具备闪锌黄铜矿结构。（可提供检验报告和样品）。
3 ，靶材致密度：大于93%。
4 ，服务：可免费提供导电玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客户最后的硒化工艺，因为磁控溅射CIGS的过程中有硒的流失。
5 ，安全防护措施：提供MSDS及溅射过程中的必要防护。
二，三硒化二铟（ In2Se3 ）靶材；三硒化二*（ Ga2Se3 ）靶材，硒化亚铜（ Cu2Se ），或者硒化铜（ CuSe ）靶材
技术对接：CVD 合成二元合金–HP（热压）--检验—打磨，抛光。
三，铜*（ CuGa ）；铜铟（ CuIn ）；铜*铟（ CuGaIn ）靶材
配方原子比例：客户可自选，我方亦可以提供常规原子比例。
四，铜（ Cu ）靶；铟（ In ）靶，硒（ Se ）靶
技术对接：浇铸
五， CIGS 配套靶材 N 型：*化镉（CDS）靶，*化锌（ZnS）靶，硒化锌（ZnSe）靶。 氧化锌铝（AZO）靶，钼（Mo）靶
1 ，由于*化镉有毒，所以*化锌，硒化锌靶为其替代品。试验表明硒化铟也有此属性。
2 ，*化镉，*化锌，硒化锌制备工艺：CVD 高纯氩气携带金属蒸汽（镉，锌蒸汽）进入反应室与过量的H2S，H2Se 气体气相沉积而成。
六，碲化镉（ CdTe ）靶材；*化镉（ CdS ）靶材；
靶材特点：高致密，高纯度，晶粒细，焊接工艺成熟
提供靶材如下:
碲化物靶材： 碲化铋（Bi2Te3）靶材；碲化锑（Sb2Te3）靶材；碲化锌（ZnTe）靶材；碲化铜（CuTe）靶材；碲化铅（PbTe）靶材；碲化铟（InTe）靶材；碲化镉（CdTe）靶材等
硒化物靶材： 硒化铋（Bi2Se3）靶材；硒化铜（CuSe）靶材；硒化铅（PbSe）靶材等 锑化物靶材： 锑化铟（InSb）靶材；锑化镉（CdSb）靶材；锑化锌（Zn4Sb3）靶材等
*化物靶材： *化锌（ZnS）靶材；*化铟（In2S3）靶材；*化镉（CdS）靶材；*化铋（Bi2S3）靶材；*化*（Ga2S3）靶材；*化铜（CuS）靶材等
氧化物靶材： 氧化锌（ZnO）靶材；氧化*（Ga2O3）靶材；氧化铟（In2O3）靶材等
氮化物靶材： 氮化铟（InN）靶材；氮化镓（GaN）靶材?